上海伯业

WAVEsystem
面向工业和学术研究的药物发现和生命科学的
下一代生物分析仪器
描述

WAVEsystem,一种 Creoptix GCI 技术, 突破亲和力范围与样品相容性的极限,将结合动力学分析水平带到新的高度。WAVE 的卓越数据质量、样品相容性和自动化软件 助力药物发现,并为 药物研发注入了新的活力。

主要特点


WAVEsystem 系统将 WAVEsystem 中 GCI 的高灵敏度与 WAVEcontrol 软件相结合,为您提供卓越的数据分析, WAVEchip,也就是我们的无堵塞微流控芯片盒,支持各种样品类型和大小。WAVEsystem 配有一个温控自动进样器,可安装小瓶、两个 96 孔板或一个 384 孔板,进一步方便使用。总体而言,该系统为您提供了一个卓越的实时非标记结合动力学分析平台。


  • 粗样、刺激性化学品和粒径高达 1,000 nm 的颗粒

  • 独立包装的一次性芯片盒,占用空间小

  • 150 ms 的超快转换时间,可靠测量 10 s-1 的解离速率

  • 出色的信噪比(1 Hz 时为 0.01 pg/mm2)

  • 可靠的动力学与结合亲和力 (KD) 数据 ,从低 pM 到低 mM,信号低于 1 pg/mm2

  • 大配体:分析物分子量比率高达>1000:1的动力学分析

  • 长达 120 小时的无人值守操作


优势

WAVEsystem 结合粗样稳健性、高灵敏度和强大的软件,为实时非标记结合动力学打造了一个新型光学生物传感器平台。围绕创新微流控和我们专利的光栅耦合干涉技术 (GCI) 进行设计, 可从难做的样品中获得的新数据,有助于加强对相互作用动力学的了解。


您从未见过的非标记数据

WAVE 采用了我们获得专利的光栅耦合干涉技术 (GCI)。WAVE 配有温控自动进样器,可处理 2 个 48 瓶架、96 或 384 孔板或其组合,具有在低固定化水平和大配体与分析物分子量 (MW) 比 率下分析所需的高灵敏度。


高灵敏度

GCI 与 SPR 的不同之处在于折射率变化的读取方式。在 SPR 中,表面等离子会迅速衰减,只能从少数相互作用中拾取信号。而在 GCI,每个光子都穿过整个波导,因此可以从更多的相互作用中 获得信号,从而带来更高的灵敏度。


此外,波导的消逝场较少穿透到主体中,从而最大限度地减少由主体折射率变化所引起的干扰。传感器表面的折射率变化被测量为随时间变化的相移信号。从而得到较高的信噪比,从低 pM 到低 mM、从低于 1 pg/mm2(相当于 <1RU)的信号测量动力学(ka、kd)与亲和力 (KD),以实现更高的灵敏度和更可靠的动力学分析。


描述

配体:分析物分子量比率 较大的情况

对大型药物靶标和小分子抑制剂之间的分子相互作用所进行的动力学分析是否准确可靠,往往取决于灵敏度。分析物分子量比率高对传统的非标记定量分析提出了巨大挑战,并且会显著影响数据质量。WAVEsystem 可用于高 配体:分析物分子量比率的动力学分析,靶标与分析物分子量比率高达 > 1000:1 ,固定化水平低时, 仍可提供出色的分辨率和可靠的动力学数据结果是提高了灵敏度,以准确测量低效价小分子或片段 药物,或低活性靶标。


更多信号,更少噪音

GCI 产生的消逝场 相比 SPR 更少穿透到主体中,从而将主体折射率变化引起的干扰降至最低。噪音降低后,信噪比更出色。


描述

可靠的读数

我们专利的 GCI 技术在时域和波导内产生干涉读数,而不是 像传统波导干涉技术那样将空域信号投射到 CCD 摄像机上。将传感器表面的折射率变化作为时间分辨相移信号进行测量可提供更可靠的读数,而不受温度漂移或振动的影响,从而在信号和时间上 获得出色的分辨率。


探索 WAVEsystem

WAVEchip

WAVEchip@-创新设计和获得专利的微流体试剂盒,可支持天然样品、致病性样品、刺激性溶剂和最大 1000 nm 的大颗粒,这通常只有通过用于动力学分析的基于微孔板的测定才能实现,以前做不到这一点。


描述

WAVEcontrol

通过简单步骤,无缝从样品到数据获取,只需按下按钮,轻松完成输出。借助waveRAPID,这种在现有WAVEdelta 仪器上使用的全新方法,实现从单孔多次进样获得相互作用的动力学 信息。


描述

WAVEcare

借助无忧保障或基础支持服务,确保为您提供高质量动力学数据和出色的性能体验。


描述

基础技术参数

项目描述备注

偏光磁性检测显微镜

显微主体

• 正置式显微镜,配备电动聚焦模块,行程45mm,适配且负载整个模块

• 内置电动检偏器,手动与自动均可使用,支持位置读出

• 无磁消色差超长焦物镜物镜放大倍率 5X(工作距离:35.0 mm, NA0.14, 20X(工作距离:20.5 mm, NA0.42, 50X(工作距离:13 mmNA0.55, 100X (工作距离:1.4 mmNA0.90

• 兼容探针测量、磁场、低温升级选件

成像模块:

• 工业相机:400万像素(2048*2048),30/秒,量子效率可达80%,且动态范围30000:1

• 大面积即时输出背景扣除的克尔成像信息,可进行动态磁畴观测

• 具备垂直各向、面内各向异性磁性材料及器件的磁畴检测能力,磁畴识别能力:550 nm

• 磁光测量模式:极向克尔、纵向克尔、横向克尔模式电动程控切换30秒内

• 百万束偏光自由控制,聚焦于物镜后焦面,可不同角度斜入射

隔震台:

• 三线摆气动悬浮隔振,支持承受电磁铁

• 为降低电磁铁工作产生的抖动对隔振性能的影响,采取显微主体和电磁铁分离的方式,显微主体放置在光学隔振台,电磁铁悬挂于桌框

• 含两个样品台(垂直和面内测试),配合DC探针,默认4高精度XYZ探针座组件

电磁铁模块

• 垂直磁场(最高1.4 T@ 25px 气隙,配合低温腔可达0.5T

• 面内磁场(一维磁场最高0.65 T@ 25px,矢量模式0.3T,支持电控旋转

• 20A36V双极性电磁铁电源,磁场分辨率0.1 Gs双模式输出电流/磁场,触屏控制,串口通讯控制,内部集成高斯计磁场闭环控制

• 室温条件下:

• 垂直各向异性材料,使用本设备做磁畴反转,拍摄速度30/秒下,成像清晰度高

• 面内各向异性材料,使用本设备做磁畴反转,拍摄速度30/秒下,成像清晰度高

高灵敏调控光源

  •  光源RGB三色亮度可调

  • 入射光角度由空间光调制器控制,空间光调制器拥有百万级别的像素,可产生任意形状光束,入射角度范围θ∈[0, arcsin(NA/n)],分辨率0.2°

可根据客户要求,替换为显微主体或其它封闭式光学主体

软件部分

  • 支持磁滞回线测量;磁光克尔成像(实时图片处理,磁滞回线提取,视频记录磁场翻转);程控实现测试模式的切换(极向,纵向,横向);配合多物理场控制,如温度,磁场,栅压电场,脉冲电流实现电学、磁学、光学同步测量

  • 在磁场、低温、电场、激光激发的测量条件下,可实现即时定点的高精度磁滞回线分析及磁畴成像


源表

• 五合一功能:恒定电流、电压输出,以及电流、电压、电阻采集

• 源和汇(四象限)操作SCPITSP®脚本编程模式


电脑

台式电脑一套i7,16G,1T SSD,显示器,鼠标,键盘,键盘支架


其他

防尘遮光静电屏蔽外壳,样品排针接头,兼容电输运测试


安装环境

  • 220V-50Hz

  • 恒温恒湿